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IC製程用化學品與特殊氣體
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IC製程用化學品與特殊氣體

IC製程用化學品與特殊氣體
石英，矽環及精細陶瓷組件
矽晶圓

常見之大宗化學品有硫酸、雙氧水、氨水、氫氟酸、磷酸、硝酸、異丙醇等；常見之特殊氣體有三氟化氮、六氟化鎢、四氟化碳

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