為製造半導體元件,需反覆經過加熱'離子佈植、微影、沉積、蝕刻、研磨等製程,而因應相關工序所使用之材料稱之為半導體材料。
包括矽晶圓、特殊氣體、大宗化學品、光阻液、去光阻液、研磨液、靶材、化學氣相沉積材料。
大宗化學品主要是清洗的功能;特殊氣體因各種品項內容分別有黃光、蝕刻、潔淨等應用。
製程機台中需經常更換之消耗性零件。
製作IC所需之最原始的底材。