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IC制程用化学品与特殊气体
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IC制程用化学品与特殊气体

IC制程用化学品与特殊气体
石英，矽环及精细陶瓷组件
矽晶圆

常见之大宗化学品有硫酸、双氧水、氨水、氢氟酸、磷酸、硝酸、异丙醇等；常见之特殊气体有三氟化氮、六氟化钨、四氟化碳

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